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铜软连接的扩散性结构

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铜软连接的扩散性结构

2019-09-28

各位客户你们好,小编近来接到了很多客户来咨询关于咨询我们铜软连接的问题,其实我们在客户们购买的时候就已经给他们介绍过了,也许有的客户当时只顾这价格的因素而忽略了在使用与维护中所要注意的细节问题。我们秉着服务客户的原理今天就给你们简单的说说这个铜软连接。

铜带软连接,搭接口采用分子扩散焊技术一次性焊接成型。产品质量好,导电性强,承受电流大,电阻值小,经久耐用等特点。广泛应用于冶金(如:电解铝、电解锌、电解铜)、化工(如:离子膜烧碱、电镀)、输变电工程(如:电厂、电站)、电力设备(如:变压器、配电柜)、炭素、电力机车、海轮等多种行业。

1.T2或和T2M或无氧铜带,带箔厚度在0.05mm~0.5mm之间

2.搭接面镀锡或镀银

3.产品可根据用户要求加工各种非标软连接

4.用户可带料加工,至大搭口尽寸:长220mm,宽40mm总长度不限。铜带软连接其工艺流程:标准选材→模具制作→下料→清理叠装→酸洗→表面处理→保温→熔炼→锯削清理毛刺→钻孔→表面抛光→导电面镀锡→整形→包装→入库2、铜铝软带过渡接头熔铸成形工艺:将配尺好的材料按工艺标准要求清理好放保温炉中,温度达到600℃左右即取出,涂好特制的溶剂后方入制好的模具中拼紧,再将熔化好的金属液(温度在1200℃左右)注入模具中,高速溶液熔为一体成形,待铸件固化后即可卸除模具将其取出。铜箔软连接


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